本文著眼于靶材產(chǎn)業(yè)鏈及企業(yè)格局的分析，認為有如下因素利好國內(nèi)靶材企業(yè)的發(fā)展: 1、下游半導體及面板產(chǎn)業(yè)產(chǎn)能轉(zhuǎn)移國內(nèi)；2、進口靶材免稅期年底到期；3、技術(shù)突破；4、國家扶持及進口替代。
濺射工藝屬于物理氣相沉積技術(shù)的一種，是制備電子薄膜材料的關(guān)鍵技術(shù)之一。在電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展過程中，金屬薄膜的制備十分重要。濺射工藝利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中加速聚集成高速離子流，轟擊固體表面，離子和固體表面的原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子離開靶材并沉積 在基材表面，從而形成納米（或微米）薄膜。被轟擊的固體是濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。